[发明专利]包括涂层或屏蔽件的PVD室屏蔽结构在审
| 申请号： | 202111438566.9 | 申请日： | 2021-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN115125507A | 公开（公告）日： | 2022-09-30 |
| 发明（设计）人： | 郑光先;安俊九;李泳昊;李钟豪;黄旭 | 申请（专利权）人： | 爱思开海力士有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/34;C23C14/06 |
| 代理公司： | 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 | 代理人： | 许伟群;王翠华 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开提供了一种包括涂层或屏蔽件的PVD室屏蔽结构。根据所公开的技术的实施方式的屏蔽结构可以包括：屏蔽件，所述屏蔽件被配置为包围设置在PVD室体中的溅射靶材与衬底之间的空间，所述屏蔽件具有带内表面和外表面的中空形状；以及涂层，所述涂层形成在屏蔽件的内表面上，其中，所述涂层具有：i)介电常数，其不大于沉积在衬底上的材料的介电常数；ii)孔隙率，其大于0vol％且小于100vol％；以及iii)厚度，其大于150μm且小于给定的上限，所述上限被设定为防止沉积在涂层之上的材料发生剥离。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 涂层 屏蔽 pvd 结构 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于爱思开海力士有限公司，未经爱思开海力士有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111438566.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种超声外科手术刀
- 下一篇：集成组合件和形成集成组合件的方法
- 同类专利
- 专利分类
