[发明专利]磺酸亚胺类化合物作为KrF厚膜光刻胶光产酸剂的应用在审
| 申请号： | 202111444525.0 | 申请日： | 2021-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN116203795A | 公开（公告）日： | 2023-06-02 |
| 发明（设计）人： | 方书农;王溯;耿志月;唐晨 | 申请（专利权）人： | 上海新阳半导体材料股份有限公司;上海芯刻微材料技术有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 陈卓 |
| 地址： | 201616 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种磺酸亚胺类化合物作为KrF厚膜光刻胶光产酸剂的应用。具体地，本发明公开了一种如式Ⅰ所示的磺酸亚胺类化合物作为KrF厚膜光刻胶光产酸剂的应用，以式Ⅰ所示的磺酸亚胺类化合物作为产酸剂制备得到的光刻胶组合物形成的胶膜矩形性佳。 |
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| 搜索关键词： | 亚胺 化合物 作为 krf 光刻 胶光产酸剂 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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