[发明专利]掩膜的制备方法在审
| 申请号： | 202111460257.1 | 申请日： | 2021-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN114274511A | 公开（公告）日： | 2022-04-05 |
| 发明（设计）人： | 陈炜婷 | 申请（专利权）人： | 乐金显示光电科技（中国）有限公司 |
| 主分类号： | B29C64/209 | 分类号： | B29C64/209;B29C64/393;B33Y30/00;B33Y50/02 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 王瑞云 |
| 地址： | 510530 广东省广州市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种掩膜的制备方法，包括建立掩膜的三维模型；对三维模型进行切片处理，得到多个打印层；根据打印层沿其厚度方向的投影轮廓确定镂空区域；根据镂空区域将打印层划分为多个与镂空区域相邻的打印子区域；根据打印子区域确定打印路径，其中，在同一打印层中，多个打印子区域的打印路径方向相同；根据打印路径打印掩膜。通过根据镂空区域将掩膜的打印层划分为与镂空区域相邻的多个打印子区域，并根据打印子区域确定打印路径，从而在3D打印装置根据打印路径打印掩膜时，避免打印喷嘴在镂空区域处抬起形成拉丝，提高了掩膜的打印质量；同时，还减少了打印喷嘴抬起和落下的次数，节省打印喷嘴抬起落下的时间，提高了打印效率。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 方法 | ||
【主权项】：
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