[发明专利]接触电极的制备方法、Mirco-LED阵列器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202111486051.6 申请日: 2021-12-07
公开(公告)号: CN114420798A 公开(公告)日: 2022-04-29
发明(设计)人: 黄炳铨;张珂;吴涛 申请(专利权)人: 深圳市思坦科技有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/36;H01L33/44;H01L27/15
代理公司: 深圳中细软知识产权代理有限公司 44528 代理人: 田丽丽
地址: 518000 广东省深圳市龙华区大浪街*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种接触电极的制备方法、Mirco‑LED阵列器件及其制备方法,接触电极的制备方法,包括以下过程:提供Micro‑LED阵列基板,在所述Micro‑LED阵列基板的接触电极位置形成铟主体层;在所述铟主体层上形成金属保护层;对所述铟主体层和所述金属保护层进行回流,得到所述接触电极。本发明制备的接触电极的高度、形状以及大小均匀,偏差较小,降低接触电极与驱动电路板的电极连接过程中出现短路、虚焊的几率。
搜索关键词: 接触 电极 制备 方法 mirco led 阵列 器件 及其
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