[发明专利]一种由易氧化金属镀膜保护制备的高致密NiV合金溅射靶材及其制备方法有效
| 申请号： | 202111500588.3 | 申请日： | 2021-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN114318255B | 公开（公告）日： | 2022-09-16 |
| 发明（设计）人： | 闻明;管伟明;陈力;王传军;普志辉;杨海;李思勰;许彦亭;沈月;巢云秀 | 申请（专利权）人： | 贵研铂业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C19/03;C23C14/16;C23C14/26;C22F1/10;C22C1/06;C22C1/02 |
| 代理公司： | 昆明知道专利事务所(特殊普通合伙企业) 53116 | 代理人： | 姜开侠 |
| 地址： | 650000 云南省昆明市*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种由易氧化金属镀膜保护制备的高致密NiV合金溅射靶材及其制备方法，所述溅射靶材之基材原料由纯度≥99.99wt％的Ni和V金属组成，其中V：5~8wt％，Ni：92~95wt％；所述基材表面有易氧化金属保护镀膜，其膜层厚度≤5μm；溅射靶材致密度≥99.5%，且表面无肉眼可见的缺陷，氧含量低于30ppm，靶材的晶粒尺寸均匀，其平均晶粒尺寸为10~30μm；所述溅射靶材之表层机加工处理的去除深度≤0.5mm。其制备方法由基材铸锭与清洗处理、基材镀膜、坯材轧制、再结晶处理和机加工处理工艺实现。本发明基于“控氧+优先保护”原理，降低基材氧含量，基材表面优先溅射易氧化金属保护镀层，抑制“夹生”脆性氧化物，提高了靶材优材率，降低了表层去除深度，减少靶材浪费，节约成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氧化 金属 镀膜 保护 制备 致密 niv 合金 溅射 及其 方法 | ||
【主权项】：
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