[发明专利]用于OLED像素沉积的沉积掩模在审
| 申请号： | 202111580123.3 | 申请日： | 2021-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN114657507A | 公开（公告）日： | 2022-06-24 |
| 发明（设计）人： | 金南昊 | 申请（专利权）人： | LG伊诺特有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54;H01L51/56;C21D6/00;C21D8/02 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 石海霞 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 根据实施例的沉积掩模包括具有第一表面和第二表面的金属板，金属板包括铁和镍，厚度为15μm至30μm，金属板包括深度为金属板的厚度的20％或更小的第一表面层以及深度为金属板的厚度的20％或更小的第二表面层，当关于第一表面层的(111)晶面、(200)晶面和(220)晶面的衍射强度分别定义为I(111)、I(200)和I(220)时，I(220)、I(200)和I(111)的衍射强度的比率分别由式1、式2和式3定义，[式1]A＝I(220)/(I(200)+I(220)+I(111))[式2]B＝I(200)/(I(200)+I(220)+I(111))[式3]C＝I(111)/(I(200)+I(220)+I(111))A的值大于B和C的值，B的值大于C的值，当B与A的比率(B/A)定义为D时，D的值为0.5至小于1。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 oled 像素 沉积 | ||
【主权项】：
暂无信息
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