[发明专利]一种改善掩模版清洗效果的装置及方法在审
| 申请号： | 202111594931.5 | 申请日： | 2021-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN114232001A | 公开（公告）日： | 2022-03-25 |
| 发明（设计）人： | 钟立华;朱邦余;李欣 | 申请（专利权）人： | 昆山福拉特自动化设备有限公司 |
| 主分类号： | C23G5/00 | 分类号： | C23G5/00;C23C14/56;C23C14/04;B08B6/00;B08B5/04;B08B13/00 |
| 代理公司： | 南京汇盛专利商标事务所(普通合伙) 32238 | 代理人： | 徐彪 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种改善掩模版清洗效果的装置及方法，通过在掩膜版网表面区域产生静电场，并且particle所受电场力背离掩膜版网的手段或方案，达到了利用电场力去除掩膜版网表面particle的效果，金属板和粘尘垫开通孔，并添加负压空气，可将脱落的Particle吸走，也可以弥补静电场力的不足，增强对Particle的吸引力。整个结构可以有效减少particle的残余量，保证后续Mask对基板的蒸镀效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改善 模版 清洗 效果 装置 方法 | ||
【主权项】：
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