[发明专利]用于执行光学邻近校正的方法、设备和存储介质

摘要

根据本公开的示例实施例，提供了用于执行光学邻近校正(OPC)的方法、装置、设备和计算机可读存储介质。在该方法中，通过修改第一掩模版图，确定第二掩模版图，第一掩模版图与第一精度格式的目标图案相关联。通过使用第二精度格式对第二掩模版图应用光刻模型，确定第二精度格式的晶圆图像，第二精度格式的精度低于第一精度格式。将第二精度格式的晶圆图像转换为第一精度格式的晶圆图像。使用第一精度格式确定指示第一精度格式的晶圆图像与目标图案之间的差异的度量指标。基于度量指标满足预定标准，输出第二掩模版图。以此方式，通过混合使用高精度和低精度格式，可以提高计算速度并且减少对计算资源和存储资源的消耗，从而提高执行OPC的效率。