[发明专利]一种两性霉素B的杂质A或杂质B的分离纯化方法在审

专利信息
申请号: 202111640190.X 申请日: 2021-12-29
公开(公告)号: CN114315932A 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 郭一平;党万利;杨晓章;张一乐;覃俐 申请(专利权)人: 浙江天台药业股份有限公司
主分类号: C07H17/08 分类号: C07H17/08;C07H1/06
代理公司: 杭州知闲专利代理事务所(特殊普通合伙) 33315 代理人: 张勋斌
地址: 317200 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供了一种分离纯化两性霉素B的杂质A、杂质B的方法,该方法主要通过动态轴向压缩制备色谱,得到两性霉素B的杂质A和杂质B纯品。具体包括以下步骤:在不同条件下加速破坏得到两性霉素B的杂质A和B溶液,以0.02M柠檬酸水溶液/乙腈为流动相进行洗脱,收集目标杂质馏分,用分析型高效液相色谱测定其纯度,纯度可达90%以上。改变流动相以水/乙腈进行再洗脱除盐,收集目标馏分,减压浓缩后得到目标产物。两性霉素B的相关杂质存在样品不稳定,分离制备难度大等特点,本发明所述的两性霉素B的杂质A和杂质B的分离纯化方法,具有分离效率高、分离速度快、操作简便等优点。
搜索关键词: 一种 两性 霉素 杂质 分离 纯化 方法
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