[发明专利]一种蒸发源装置、蒸镀设备及蒸镀方法在审
| 申请号： | 202111651965.3 | 申请日： | 2021-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN114318238A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 刘金彪;李元星;罗楠;刘文豪;肖昂;晋亚杰;李靖;加新星;姬磊;黄秦霏 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人： | 张磊 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种蒸发源装置、蒸镀设备及蒸镀方法，该蒸发源装置包括：坩埚，用于容纳蒸镀材料，所述坩埚设有用于输出所述蒸镀材料的多个喷口，多个所述喷口至少排列为一排；风扇部件，可转动地设置于所述坩埚的喷口处，以使所述蒸镀材料通过所述风扇部件向外喷射；加热部件，用于对所述坩埚内的蒸镀材料进行加热气化；以及多个驱动装置，分别用于驱动所述风扇部件旋转。本发明的蒸发源装置通过对风扇部件的转速控制，可对坩埚内压进行调控，从而调控蒸镀材料喷出的范围，随着风扇部件的旋转速度增加，喷射蒸镀材料的区域越集中，该区域内的材料沉积的越多，从而调整该区域的膜层厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 蒸发 装置 设备 方法 | ||
【主权项】：
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