[发明专利]具有低缺陷率的有机金属辐射可图案化涂层及相应方法在审
| 申请号： | 202111674746.7 | 申请日： | 2021-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN114967348A | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 本杰明·L·克拉克;加埃塔诺·焦尔达诺;张书豪;多米尼克·斯米迪;马克·杰尼萨;克雷格·M·盖茨;简·杜瓦斯;彼得·戴·薛伯 | 申请（专利权）人： | 因普利亚公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 汪洋 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有低缺陷率的有机金属辐射可图案化涂层及相应方法。在形成尤其用于EUV图案化的辐射可图案化结构的背景下，描述了晶片结构，其包括具有光滑顶部表面的衬底和辐射敏感有机金属涂层，辐射敏感有机金属涂层具有不超过100nm的平均厚度，并且在针对尺寸大于48nm的缺陷、排除3mm边缘进行评估的情况下，辐射敏感有机金属涂层具有不超过约每平方厘米1个缺陷。用于形成低缺陷涂层的相应方法包括：使用旋涂机系统，将经纯化辐射敏感有机金属抗蚀剂溶液旋涂到晶片上以形成经涂覆晶片，旋涂机系统包括输送管线和连接到输送管线的输送喷嘴，并且干燥经涂覆晶片以形成辐射敏感有机金属涂层，该辐射敏感有机金属涂层在针对尺寸大于48nm的缺陷、排除3mm边缘进行评估的情况下，具有不超过约每平方厘米1个缺陷。提供了用于从可辐射图案化的有机金属抗蚀剂组合物中去除微粒的改善的过滤方法。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 缺陷 有机 金属 辐射 图案 涂层 相应 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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