[实用新型]一种异质结太阳能电池PECVD设备的真空腔室有效
申请号: | 202120054133.2 | 申请日: | 2021-01-11 |
公开(公告)号: | CN214193448U | 公开(公告)日: | 2021-09-14 |
发明(设计)人: | 周继承;廖佳;黄静;徐伟;曾世魁 | 申请(专利权)人: | 中南大学 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/50;C23C16/24;C23C16/455;C23C16/458;C23C16/52;H01L31/20 |
代理公司: | 北京东方盛凡知识产权代理事务所(普通合伙) 11562 | 代理人: | 王颖 |
地址: | 410083 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本实用新型公开一种异质结太阳能电池PECVD设备的真空腔室,其特征在于,包括:真空壳体,沉积装置和升降装置;沉积装置设置在真空壳体内腔;升降装置设置在真空壳体底部;沉积装置包括匀气挡板;真空壳体顶面和底面分别开设有进气口和出气口;匀气挡板的侧壁与真空壳体内壁顶部固接;真空壳体内腔中部固接有喷淋板;真空壳体内腔底部设置有承载机构;承载机构的底面与升降装置顶部固接;匀气挡板顶面中部开设有第一匀气孔;第一匀气孔两侧分别对称开设有第二匀气孔;匀气挡板顶面两最外侧分别对称开设有第三匀气孔。 | ||
搜索关键词: | 一种 异质结 太阳能电池 pecvd 设备 空腔 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的