[实用新型]一种纳米压印光刻机有效
| 申请号： | 202120085941.5 | 申请日： | 2021-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN215376079U | 公开（公告）日： | 2021-12-31 |
| 发明（设计）人： | 陈杰相 | 申请（专利权）人： | 苏州硕芯电子科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 安徽盟友知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 34213 | 代理人： | 周荣 |
| 地址： | 215559 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及光刻机技术领域，且公开了一种纳米压印光刻机，包括底座、压板和支架，所述支架的底端与底座的上表面固定，所述底座的上表面固定有安装座，所述安装座的顶部固定设置有基板承载台，所述基板承载台的内部设置有三个电动升降顶针，所述安装座的一侧设置有位置传感器，所述位置传感器的下表面固定有第一支撑杆，所述第一支撑杆的底端与底座的上表面固定。该纳米压印光刻机，在使用过程中，通过第二弹簧推动卡接件，对遮光板进行固定，然后进行纳米压印，该过程在不更换软模具的情况下，仅需更换基板，实现了循环操作，而且可以避免发生溢胶现象，从而防止基板粘在托盘上难以分离，有利于提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 压印 光刻 | ||
【主权项】：
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