[实用新型]转印滚轮成形系统及离子蚀刻设备有效
| 申请号： | 202120088971.1 | 申请日： | 2021-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN214324521U | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | 林刘恭 | 申请（专利权）人： | 光群雷射科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B41C1/02 | 分类号： | B41C1/02 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 李佳佳 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了转印滚轮成形系统及离子蚀刻设备。该转印滚轮成形系统包括：离子蚀刻设备，包含：基座；混合气体供应模块，安装至基座；及干式蚀刻腔室，设置于基座，并且干式蚀刻腔室包含转动式载台及围绕转动式载台外侧的蚀刻驱动模块；其中，转动式载台与蚀刻驱动模块之间相隔有激发区域，混合气体供应模块与激发区域连通；转印滚轮成形系统还包括金属转印滚轮，其能拆卸地安装在转动式载台上并位于激发区域内，蚀刻驱动模块与金属转印滚轮间隔开并面向金属转印滚轮的外侧面。由此，离子蚀刻设备可以用来直接在所述金属转印滚轮的外侧面上凹设形成转印微结构层，进而有效地降低成本且提高合格率。 | ||
| 搜索关键词： | 滚轮 成形 系统 离子 蚀刻 设备 | ||
【主权项】：
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