[实用新型]薄形光阻成形系统及薄形光阻成形设备有效
申请号: | 202120102252.0 | 申请日: | 2021-01-14 |
公开(公告)号: | CN214320750U | 公开(公告)日: | 2021-10-01 |
发明(设计)人: | 林刘恭 | 申请(专利权)人: | 光群雷射科技股份有限公司 |
主分类号: | B05C5/02 | 分类号: | B05C5/02;B05C11/02;G03F7/16 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 李佳佳 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型公开了薄形光阻成形系统及薄形光阻成形设备。薄形光阻成形系统用来对转印滚轮的外表面喷涂光阻层,其包括:雾化腔室;及薄形光阻成形设备,设置于雾化腔室中,薄形光阻成形设备包含:滚轮固定装置;及雾化装置,邻近滚轮固定装置设置,且雾化装置包含至少一个雾化器以及对应至少一个雾化器设置的溶液槽;其中,溶液槽中容纳有水性光阻溶液,并且至少一个雾化器用来朝向所述雾化腔室雾化水性光阻溶液。本实用新型的有益效果在于,薄形光阻成形系统及薄形光阻成形设备能通过“雾化装置用来使雾化的水性光阻溶液在外表面上形成光阻层”的技术方案,减少光阻层在外表面上形成的时间和光阻层的厚度。 | ||
搜索关键词: | 薄形光阻 成形 系统 设备 | ||
【主权项】:
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