[实用新型]一种硅片研磨机用测厚装置有效

专利信息
申请号: 202120153614.9 申请日: 2021-01-20
公开(公告)号: CN214519255U 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 沈益军;吴雄杰;张立安;潘金平;饶伟星;肖世豪;苏文霞;梁奎;冯小娟;孟柱;余天威 申请(专利权)人: 浙江海纳半导体有限公司
主分类号: B24B7/22 分类号: B24B7/22;B24B27/00;B24B49/00
代理公司: 温州青科专利代理事务所(特殊普通合伙) 33390 代理人: 钱磊
地址: 324300 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型涉及硅片加工技术领域,且公开了一种硅片研磨机用测厚装置,包括打磨机台面,所述打磨机台面顶部设置有下磨盘,所述下磨盘顶部设有上磨盘,所述上磨盘上开设有圆孔,所述圆孔内部设有圆板,所述圆板通过轴承与圆孔活动连接,所述圆板顶部边缘固定套接有蜗轮,所述蜗轮一侧设置有操作装置,所述圆板上开设有安装孔,所述安装孔设置在圆板表面靠近边缘处,所述圆板顶部设有固定板,所述固定板顶面开设有限位槽。该硅片研磨机用测厚装置,通过拧动旋钮可以带动蜗杆转动,进而通过蜗轮带动圆板转动,有利于调节电极的位置,进而匹配不同规格硅片中心的运动轨迹,提高了适用性,调节精度高,操作方便。
搜索关键词: 一种 硅片 研磨机 用测厚 装置
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