[实用新型]一种硅片研磨机用测厚装置有效
申请号: | 202120153614.9 | 申请日: | 2021-01-20 |
公开(公告)号: | CN214519255U | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
发明(设计)人: | 沈益军;吴雄杰;张立安;潘金平;饶伟星;肖世豪;苏文霞;梁奎;冯小娟;孟柱;余天威 | 申请(专利权)人: | 浙江海纳半导体有限公司 |
主分类号: | B24B7/22 | 分类号: | B24B7/22;B24B27/00;B24B49/00 |
代理公司: | 温州青科专利代理事务所(特殊普通合伙) 33390 | 代理人: | 钱磊 |
地址: | 324300 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及硅片加工技术领域,且公开了一种硅片研磨机用测厚装置,包括打磨机台面,所述打磨机台面顶部设置有下磨盘,所述下磨盘顶部设有上磨盘,所述上磨盘上开设有圆孔,所述圆孔内部设有圆板,所述圆板通过轴承与圆孔活动连接,所述圆板顶部边缘固定套接有蜗轮,所述蜗轮一侧设置有操作装置,所述圆板上开设有安装孔,所述安装孔设置在圆板表面靠近边缘处,所述圆板顶部设有固定板,所述固定板顶面开设有限位槽。该硅片研磨机用测厚装置,通过拧动旋钮可以带动蜗杆转动,进而通过蜗轮带动圆板转动,有利于调节电极的位置,进而匹配不同规格硅片中心的运动轨迹,提高了适用性,调节精度高,操作方便。 | ||
搜索关键词: | 一种 硅片 研磨机 用测厚 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江海纳半导体有限公司,未经浙江海纳半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202120153614.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种用于硅片存放及运输的容器
- 下一篇:一种超声波生产线清洗机