[实用新型]一种用于蒸镀的坩埚结构及蒸镀设备有效

专利信息
申请号: 202120198354.7 申请日: 2021-01-25
公开(公告)号: CN214694344U 公开(公告)日: 2021-11-12
发明(设计)人: 张麒麟 申请(专利权)人: 福建华佳彩有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24
代理公司: 福州市景弘专利代理事务所(普通合伙) 35219 代理人: 林祥翔;徐剑兵
地址: 351100 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 实用新型公布一种用于蒸镀的坩埚结构及蒸镀设备,其中坩埚结构包括内层坩埚、外层坩埚、上盖、第一垫片和第二垫片;所述内层坩埚包括顶部敞口的第一腔体,所述第一腔体用于容置蒸镀物;所述外层坩埚包括顶部敞口的第二腔体,所述内层坩埚的外壁通过所述第一垫片设置在所述第二腔体中,所述第一垫片用于增加内层坩埚和外层坩埚的导热均匀性;所述上盖的底部通过第二垫片设置在内层坩埚的顶部上,所述第二垫片用于增加上盖和内层坩埚之间的导热均匀性,所述上盖包括喷嘴,所述喷嘴连通上盖的一侧和位于上盖另一侧的第一腔体。上述技术方案解决内层坩埚中的蒸镀物受热不均造成镀率不稳定的问题,减少外层坩埚或者内层坩埚发生碎裂的概率。
搜索关键词: 一种 用于 坩埚 结构 设备
【主权项】:
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