[实用新型]一种真空镀膜膜厚检测装置有效
| 申请号： | 202120265508.X | 申请日： | 2021-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN214361651U | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 马毅;周力;黄先伟;谢续友;吴伊帆 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人： | 周红芳;朱盈盈 |
| 地址： | 310014 *** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空镀膜膜厚检测装置，包括磁控溅射仪主腔及设置在磁控溅射仪主腔内的样品台，所述样品台底面固定设置高精度力传感器，所述高精度力传感器下方设有硅片，所述硅片相连设置在高精度力传感器上，所述磁控溅射仪主腔底部设有靶材支座，所述靶材支座上设有靶材，且靶材中心与硅片中心位于同一铅垂线上。本实用新型的有益效果：设计巧妙，结构合理，使用方便，应用本装置实现真空镀膜过程中的膜厚检测，大幅提高对在真空镀薄过程中膜厚度的了解程度，对薄膜的研究领域具有重要的意义。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空镀膜 检测 装置 | ||
【主权项】：
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