[实用新型]一种真空镀膜溅射靶的测温装置有效
申请号: | 202120265522.X | 申请日: | 2021-01-31 |
公开(公告)号: | CN214361652U | 公开(公告)日: | 2021-10-08 |
发明(设计)人: | 马毅;王瑞聪;黄先伟;谢续友 | 申请(专利权)人: | 浙江工业大学 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/54 |
代理公司: | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人: | 周红芳;朱盈盈 |
地址: | 310014 *** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种真空镀膜溅射靶的测温装置,包括真空腔体室、真空腔体室及红外测温探测头,所述真空腔体室内设有溅射靶放置台,所述红外测温探测头上设有探测头旋转装置,所述溅射靶放置台底部设有柔性支撑管,所述柔性支撑管上设有连接支架,并通过连接支架与探测头旋转装置相连,并通过探测头旋转装置实现红外测温探测头对溅射靶放置台上的靶材进行温度检测。本实用新型的有益效果:设计巧妙,结构合理,使用方便,应用本装置实现溅射靶材测温,大幅简化了人的观察操作过程,降低了溅射靶材受到温度过高,导致靶材破裂的风险,提高了安全性和镀膜效果,对薄膜的研究领域具有重要的意义。 | ||
搜索关键词: | 一种 真空镀膜 溅射 测温 装置 | ||
【主权项】:
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