[实用新型]一种真空镀膜溅射靶的测温装置有效

专利信息
申请号: 202120265522.X 申请日: 2021-01-31
公开(公告)号: CN214361652U 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 马毅;王瑞聪;黄先伟;谢续友 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/54
代理公司: 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 代理人: 周红芳;朱盈盈
地址: 310014 *** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种真空镀膜溅射靶的测温装置,包括真空腔体室、真空腔体室及红外测温探测头,所述真空腔体室内设有溅射靶放置台,所述红外测温探测头上设有探测头旋转装置,所述溅射靶放置台底部设有柔性支撑管,所述柔性支撑管上设有连接支架,并通过连接支架与探测头旋转装置相连,并通过探测头旋转装置实现红外测温探测头对溅射靶放置台上的靶材进行温度检测。本实用新型的有益效果:设计巧妙,结构合理,使用方便,应用本装置实现溅射靶材测温,大幅简化了人的观察操作过程,降低了溅射靶材受到温度过高,导致靶材破裂的风险,提高了安全性和镀膜效果,对薄膜的研究领域具有重要的意义。
搜索关键词: 一种 真空镀膜 溅射 测温 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江工业大学,未经浙江工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202120265522.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top