[实用新型]一种可调控双折射的光纤光栅制备装置有效
| 申请号： | 202120291998.0 | 申请日： | 2021-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN214174668U | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 许百杰;何俊;徐锡镇;王义平 | 申请（专利权）人： | 深圳大学 |
| 主分类号： | G02B6/02 | 分类号： | G02B6/02 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 刘爱珍 |
| 地址： | 518060 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供的一种可调控双折射的光纤光栅制备装置，包括：激光加工光路系统、位移平台；所述激光加工光路系统包括激光器装置、激光整形装置、和控制装置；所述激光整形装置用于对激光器装置发射的激光进行整形处理，经整形处理的激光聚焦到光纤上；所述控制装置与激光整形装置相连接，用于控制并调整激光整形装置；位移平台用于带动光纤移动，以便使激光在光纤上诱导形成折射率调制区域，从而形成光纤光栅。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 调控 双折射 光纤 光栅 制备 装置 | ||
【主权项】：
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