[实用新型]一种光罩盒用载台结构有效
申请号: | 202120403572.X | 申请日: | 2021-02-24 |
公开(公告)号: | CN214427743U | 公开(公告)日: | 2021-10-19 |
发明(设计)人: | 骆建钢;黄俊;徐晓敏 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 戴广志 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种光罩盒用载台结构,包括本体、吹气装置、真空装置;本体包括容纳腔以放置光罩盒,容纳腔设置为顶部敞口;容纳腔的侧壁开设有通气孔,吹气装置通过通气孔与容纳腔的腔体联通;容纳腔的与开设所述通气孔的侧壁相对的侧壁开设真空孔,真空装置通过真空孔与容纳腔的腔体联通;容纳腔内未放置光罩盒时,吹气装置、真空装置同时打开以持续清洁容纳腔,因此,实现了自主自动清洁,且清洁效果更好,还可以减少或者不再需要定时人工清洁,进一步优化了清洁流程,节省了清洁时间。 | ||
搜索关键词: | 一种 光罩盒用载台 结构 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202120403572.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种手提式螺丝刀储放盒
- 下一篇:一种三合一板式换热器
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备