[实用新型]一种等离子蚀刻设备有效

专利信息
申请号: 202120501055.6 申请日: 2021-03-09
公开(公告)号: CN214429787U 公开(公告)日: 2021-10-19
发明(设计)人: 赵义党;李志强;李志华;廖文晗;贝亮 申请(专利权)人: 珠海恒格微电子装备有限公司
主分类号: H05K3/06 分类号: H05K3/06;H01J37/32
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 卢泽明
地址: 519000 广东省珠海市横琴新*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及电路板加工设备技术领域,尤其涉及一种等离子蚀刻设备,包括:基座;蚀刻腔,设置在基座上,用于容置电路板,并且蚀刻腔的一端敞开;门板,设置在蚀刻腔上敞开的一端,门板的一侧或两侧设置有限位杆;支架,设置在基座上,设置有与限位杆相配合的限位孔;本实用新型的门板能够沿腰孔的轴线方向移动,而腰孔的下端朝向靠近蚀刻腔的方向倾斜延伸,进而保证门板在移动过程中的准确性和稳定性,即门板可以在下降过程中朝向靠近蚀刻腔的方向移动进而压紧以封闭甚至密封蚀刻腔,避免发生泄漏的问题而影响蚀刻的质量和车间的生产环境。
搜索关键词: 一种 等离子 蚀刻 设备
【主权项】:
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