[实用新型]多阶曝光装置有效
| 申请号： | 202120501277.8 | 申请日： | 2021-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN214375821U | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 刘大有;简志桦;赖建华;陈世勋 | 申请（专利权）人： | 刘大有;赖建华;简志桦;陈世勋 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 朱丽华 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种多阶曝光装置，包括有一工作平台，其设有一用以搭载晶圆的载台。工作平台的上方设有一DMD曝光机，其具有复数个构成阵列的微反射镜，此DMD曝光机电性连接一控制单元，其可接受复数个曝光参数的设定，进而控制DMD曝光机中各微反射镜的作动，以在同一晶圆上分别成形曝光图形，据此在晶圆上形成多个曝光层次。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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