[实用新型]一种研磨抛光设备多方向力控制补偿结构有效

专利信息
申请号: 202120510548.6 申请日: 2021-03-10
公开(公告)号: CN213352045U 公开(公告)日: 2021-06-04
发明(设计)人: 罗永念;罗强;黄大路 申请(专利权)人: 东莞市春草研磨科技有限公司
主分类号: B24B41/02 分类号: B24B41/02;B24B41/06;B24B47/22;B24B51/00;B24B49/00
代理公司: 东莞市卓越超群知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 44462 代理人: 李慧
地址: 523710 广东省东莞*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种研磨抛光设备多方向力控制补偿结构,涉及研磨抛光设备技术领域,该方案包括Y轴驱动部、Z轴驱动部、工件固定部、用于感应工件固定部压力值的力控传感器和控制模块,所述控制模块控制Y轴驱动部驱动Z轴驱动部沿Y轴方向往返移动,所述控制模块控制Z轴驱动部驱动力控传感器沿Z轴方向往返移动,所述力控传感器与控制模块信号连接,所述工件固定部位于力控传感器的上方;本实用新型具有同时调控各个角度,缩小多工位研磨抛光设备的各个工位精度误差,使得工件受力大小更均匀,打磨抛光出的3D面精度质量更高的优点。
搜索关键词: 一种 研磨 抛光 设备 多方 控制 补偿 结构
【主权项】:
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