[实用新型]一种薄膜基材处理系统有效
| 申请号： | 202120519173.X | 申请日： | 2021-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN215088569U | 公开（公告）日： | 2021-12-10 |
| 发明（设计）人： | 臧伟;龙国斌;谭丁演 | 申请（专利权）人： | 深圳市镭煜科技有限公司 |
| 主分类号： | B05D3/02 | 分类号： | B05D3/02;B05D3/04;B05B16/60 |
| 代理公司： | 深圳市远航专利商标事务所(普通合伙) 44276 | 代理人： | 田志远;张朝阳 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市光明*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种薄膜基材处理系统，包括用于提供薄膜基材的放卷模组、用于对薄膜基材进行加热处理的烘箱模组、用于提供强氧化气体的强氧化气体发生器及用于收卷处理后的薄膜基材的收卷模组，放卷模组设置在烘箱模组的基材进料侧，收卷模组设置在烘箱模组的基材出料侧，强氧化气体发生器的出气口与烘箱模组的加热腔体连通，烘箱模组的基材进料口和基材出料口均设置有抽风装置。本实用新型除了可以对薄膜基材进行开卷加热外，还可以针对某些薄膜基材（如铝箔），在强氧化的环境中进行开卷加热，不仅使其可以去除水分、消除应力，还可以在其表面形成致密的氧化层，为后续生产工艺奠定基础，改善工艺，提高产品的整体稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 基材 处理 系统 | ||
【主权项】：
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