[实用新型]一种IC级原硅片研磨盘有效

专利信息
申请号: 202120550349.8 申请日: 2021-03-17
公开(公告)号: CN214685936U 公开(公告)日: 2021-11-12
发明(设计)人: 郭城;吕明;李充;王永超;李加美 申请(专利权)人: 济南科盛电子有限公司
主分类号: B24B37/11 分类号: B24B37/11;B24B37/34
代理公司: 山东瑞宸知识产权代理有限公司 37268 代理人: 王萍
地址: 250200 山东省济南*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 实用新型涉及半导体研磨的技术领域,公开了一种IC级原硅片研磨盘,包括研磨盘和旋转盘,所述旋转盘设置两个,分别同心设置在研磨盘的上部和下部;所述研磨盘上的中心设置有第一中心定位孔,所述研磨盘上还设有第一沉孔和流液孔,所述第一沉孔和流液孔分别绕中心定位孔设置;所述第一旋转盘和第二旋转盘上分别设有第二中心定位孔、第二沉孔、周向流道和径向流道,且所述第一旋转盘和第二旋转盘的外侧壁上固定连接有手柄,所述第一旋转盘上表面铰接有保护盖,所述第二旋转盘的下表面铰接有保护盖。本IC级原硅片研磨盘上下设置有保护盖,放置研磨时研磨液溢出,且可同时研磨两个硅片,研磨效率得到提升。
搜索关键词: 一种 ic 硅片 研磨
【主权项】:
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