[实用新型]一种用于掩膜板干燥的多功能装置有效
申请号: | 202120597504.1 | 申请日: | 2021-03-24 |
公开(公告)号: | CN214278626U | 公开(公告)日: | 2021-09-24 |
发明(设计)人: | 罗雪春;万其凯;李承禧;范兴文 | 申请(专利权)人: | 成都拓维高科光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
代理公司: | 成都蓉创智汇知识产权代理有限公司 51276 | 代理人: | 谭新民 |
地址: | 610000 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于掩膜板干燥的多功能装置,包括干燥箱体,待干燥的掩膜板置于干燥箱体内部,所述干燥箱体侧面设有箱门,干燥箱体内设有用于干燥掩膜板的干燥机,干燥机与外部的控制柜连接,所述干燥箱体的上、下内壁及与箱门对立的侧壁上分别设有上板、下板和后板,各板上间隔设有多个用于放置掩膜板的条形凹槽,上板与下板之间的凹槽相对设置且凹槽沿着掩膜板进入箱体的方向,后板上的凹槽方向与上板的凹槽垂直,干燥箱体顶面和箱门对立面分别设有用于驱动上板、后板移动的电液压杆,电液压杆与控制柜连接。本实用新型提高了掩膜板干燥后产品良率,能干燥多种尺寸的掩膜板,生产效率高,成本低。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 掩膜板 干燥 多功能 装置 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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