[实用新型]用于化学机械研磨装置的研磨垫和化学机械研磨装置有效
| 申请号： | 202120660603.X | 申请日： | 2021-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN215470444U | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 刘慧超;高林 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 孙佳胤 |
| 地址： | 430074 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 该实用新型提出一种用于化学机械研磨装置的研磨垫和化学机械研磨装置，所述研磨垫包括具有第一硬度的第一研磨部和具有第二硬度的第二研磨部，所述第一硬度小于所述第二硬度，在所述研磨垫的研磨面上，所述第一研磨部的研磨面积和所述第二研磨部的研磨面积相同。根据本实用新型实施例的研磨垫，能够减少对晶圆表面形貌的损坏，且不易变形，使用寿命长。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械 研磨 装置 | ||
【主权项】：
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