[实用新型]管式PECVD设备

摘要

本实用新型公开了管式PECVD设备，用于对基材进行镀膜，包括：腔体；射频电源接入部，设置在腔体上，具有射频馈入部和接地部，射频馈入部的一端和射频电源的发射端连接，射频馈入部的另一端伸进腔体内，接地部的一端和射频电源的接地端连接，接地部的另一端伸进腔体内；载片舟，包括多个第一导体和多个第二导体，第一导体和第二导体之间被绝缘，基材被保持在第一导体和第二导体中的其中一个；在被送入腔体内的状态下，第一导体和第二导体中的其中一个，和射频馈入部连接，第一导体和第二导体中的另一个，和接地部连接。本实用新型的管式PECVD设备，在能够保证产量的同时，提高镀膜质量。