[实用新型]一种化学气相沉积用石英舟有效
申请号: | 202120754208.8 | 申请日: | 2021-04-14 |
公开(公告)号: | CN214797356U | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
发明(设计)人: | 戴贵平;侯佩佩;李梦超 | 申请(专利权)人: | 南昌大学 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673;C23C16/54 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 330000 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种化学气相沉积用石英舟,包括两个石英舟侧板,两个所述石英舟侧板呈对称设置,两个石英舟侧板之间一体式设置有四个第一支撑柱,第一支撑柱的圆周外壁均开设有均匀分布的第一舟槽,所述第一支撑柱呈圆周分布;所述石英舟侧板呈等腰梯形结构,所述石英舟侧板一侧外壁开设有滑槽,滑槽呈螺旋状结构。本实用新型通过设置滑槽和提拉杆,能够根据实际需求将提拉杆的两端同时滑动于滑槽内,实现对提拉杆的拆装,且提拉杆的两端可活动于滑槽内,因此,当提拉杆角度偏移时,石英舟在重力的作用下与提拉杆两端发生相对角度变化,使石英舟仍能够保持稳定,有效避免了石英舟内物体脱出,提升了可靠性。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 沉积 石英 | ||
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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