[实用新型]一种用于PECVD设备内的石墨舟传送机构有效
申请号: | 202120783879.7 | 申请日: | 2021-04-16 |
公开(公告)号: | CN215887225U | 公开(公告)日: | 2022-02-22 |
发明(设计)人: | 高斌;施文成;李友军;李友萍 | 申请(专利权)人: | 无锡德欣光伏科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/54 |
代理公司: | 无锡市才标专利代理事务所(普通合伙) 32323 | 代理人: | 吕志垚 |
地址: | 214000 江苏省无锡市锡山区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开一种用于PECVD设备内的石墨舟传送机构,包括运输装置、定量位移装置和输送装置,所述输送装置的一端固定有第一伺服电机,所述第一伺服电机的输出端和输送装置固定连接,所述定量位移装置包括固定板和限位块,所述固定板固定在输送装置的一侧,所述限位块等距固定在固定板的上端,所述固定板的一端固定有第二伺服电机,所述第二伺服电机的输出端固定有转动架,本实用新型采用定量位移装置用于控制石墨舟在传送过程中停止,添加石墨后重新进行运输,通过定量位移装置能够控制石墨舟以相同的间距和间隔时间移动,这样机械手在进行添加石墨时能够更方便,能够有效加快设备内部石墨在石墨舟的添加和运输。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 pecvd 设备 石墨 传送 机构 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的