[实用新型]一种支撑装置及CVD反应器有效
申请号: | 202120891234.5 | 申请日: | 2021-04-25 |
公开(公告)号: | CN215365975U | 公开(公告)日: | 2021-12-31 |
发明(设计)人: | 朱建中;于伟华;鞠德胜;万荣群 | 申请(专利权)人: | 宜兴市海飞陵电子科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;B25B11/00 |
代理公司: | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人: | 李莹 |
地址: | 214000 江苏省无锡市宜兴经济*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型实施例公开了一种支撑装置及CVD反应器,涉及产品放置架技术领域。所述支撑装置包括多个支撑柱,多个圆形骨架,第一支撑架以及第二支撑架;多个支撑柱呈圆形布置;多个圆形骨架间隔设置在多个支撑柱上;第一支撑架设置在圆形骨架内,用于支撑产品;第二支撑架设置在支撑柱上,用于固定各支撑柱。本实用新型实施例提出的支撑装置中,多个圆形骨架间隔设置在多个支撑柱上,每个圆形骨架内均设有用于支撑产品的第一支撑架,从而极大提高了空间利用率,使得支撑装置能够放置更多产品。进一步地,圆形骨架稳定性好,并且,通过第二支撑架能够更好固定支撑柱,使得支撑更加稳定,支撑性更好,有助于上下层空间的气流均匀分布。 | ||
搜索关键词: | 一种 支撑 装置 cvd 反应器 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的