[实用新型]一种平面靶材专用离子镀膜装置有效
申请号: | 202120931702.7 | 申请日: | 2021-04-30 |
公开(公告)号: | CN214782105U | 公开(公告)日: | 2021-11-19 |
发明(设计)人: | 王雷;田伟 | 申请(专利权)人: | 南通安泰新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32;C23C14/56 |
代理公司: | 北京纽盟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11456 | 代理人: | 许玉顺 |
地址: | 226000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种平面靶材专用离子镀膜装置,包括镀膜反应箱,所述镀膜反应箱的一侧设有上料口,所述上料口上设有电磁门锁,所述电磁门锁的外侧设有把手,所述镀膜反应箱的内部的上端设有阴极固定机构,所述镀膜反应箱的内部的下端设有离子发生阳极机构,所述镀膜反应箱外侧的底部设有真空泵,所述真空泵通过真空管道连接镀膜反应箱内部,本实用新型结构简单,设计新颖,特设的电磁门锁能够将上料口进行密封,有效的提高了离子镀膜装置在工作过程中密封性能,从而杜绝了镀膜前驱物逸散于大气中,而造成镀膜前驱物浪费。 | ||
搜索关键词: | 一种 平面 专用 离子 镀膜 装置 | ||
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