[实用新型]一种反应磁控多弧线圈靶装置

摘要

本实用新型属于真空镀膜技术领域，具体公开一种反应磁控多弧线圈靶装置，包括圆形多弧靶材、用于安装圆形多弧靶材的金属制靶材座，所述金属制靶材座通过安装法兰安装在真空镀膜室的内部，所述安装法兰内嵌有磁性线圈，所述安装法兰上对应与靶材的前端设有阳极罩，所述安装法兰上还安装有引弧装置，所述金属制靶材座的背面设有转动的永磁铁装置。该反应磁控多弧线圈靶装置具有较高溅射磁场的稳定性和均匀性，确保靶材溅射的均匀性，且镀膜产品的镀膜效果的一致性，极大的提升了反应磁控多弧镀膜工艺的镀膜效率，镀膜膜层更为致密，表面粗糙度更低，并且膜层与基材之间的附着力更高，有效的提高了镀膜产品的质量，能适用于不同的镀膜基材产品。