[实用新型]一种用于实现双面激光直写光刻的装置有效
| 申请号： | 202121272827.X | 申请日： | 2021-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN215006245U | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 栾世奕;宋毅;桂成群;薛兆丰 | 申请（专利权）人： | 矽万（上海）半导体科技有限公司;武汉大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海远同律师事务所 31307 | 代理人： | 丁利华 |
| 地址： | 200131 上海市浦东新区自由*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种用于实现双面激光直写光刻的装置，包括：用于支撑衬底的支架主体、用于限制衬底X方向位移的X方向调节螺丝、用于限制衬底Y方向位移的Y方向调节螺丝以及用于限制衬底Z方向位移的Z方向调节螺丝，所述支架主体由一底面及设置在所述底面上的边框构成，并且在所述边框内侧沿边框具有阶梯部，用于支撑衬底并限制衬底Z方向向下的自由度，所述衬底与所述支架主体通过间隙配合安装在一起。与现有技术相比，本实用新型的装置可以实现衬底上3D结构如微透镜阵列的双面制备。并且本实用新型的装置结构简单，制备成本低，并且可以适用于不同尺寸与形状的衬底。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 实现 双面 激光 光刻 装置 | ||
【主权项】：
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