[实用新型]一种离子注入机磨砂靶盘底座有效
申请号: | 202121453644.8 | 申请日: | 2021-06-29 |
公开(公告)号: | CN215418095U | 公开(公告)日: | 2022-01-04 |
发明(设计)人: | 宋戈 | 申请(专利权)人: | 上海羽辰电子科技有限公司 |
主分类号: | H01J37/20 | 分类号: | H01J37/20;H01J37/317;H01L21/265 |
代理公司: | 重庆百润洪知识产权代理有限公司 50219 | 代理人: | 陈万江 |
地址: | 201206 上海市浦东新区金皖路*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型涉及离子注入技术领域,特别涉及一种离子注入机磨砂靶盘底座;包括底座和安装于底座上的固定柱,所述底座的一侧设置有弹性限位组件,所述弹性限位组件包括挡块、活动块、第一弹性限位件、第二弹性限位件和第三弹性限位件,所述挡块固接于底座上,所述第一弹性限位件和第二弹性限位件平行并列安装于挡块与活动块之间,所述第一弹性限位件和第二弹性限位件的两端分别与挡块与活动块固接,所述活动块远离挡块的一端可拆卸连接第三弹性限位件。本实用新型通过设置弹性限位组件,从硅片的边缘外侧卡紧硅片,避免直接压在硅片的正面,降低了硅片碎片的情况,且注入时没有盲区,全片都可以均勻注入,提高了芯片成品率。 | ||
搜索关键词: | 一种 离子 注入 磨砂 盘底 | ||
【主权项】:
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