[实用新型]一种精密的半导体光刻设备有效
申请号: | 202121679986.1 | 申请日: | 2021-07-22 |
公开(公告)号: | CN215833758U | 公开(公告)日: | 2022-02-15 |
发明(设计)人: | 谢红 | 申请(专利权)人: | 上海亚曼光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) 31297 | 代理人: | 崔巍 |
地址: | 200120 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种精密的半导体光刻设备,本实用新型涉及光刻设备技术领域,精密的半导体光刻设备,包括机台、转动机构、升降机构和激光刻头,机台上表面中心开有储物槽,转动机构位于储物槽内,升降机构位于机台上方,激光刻头安装于升降机构内侧;机台上表面外围固定有若干个呈环形分布的定位盘,每个定位盘靠近机台中心的一侧内壁均固定有固定夹块,且每个定位盘靠近机台中心的一侧外壁均开有螺孔,螺孔与定位盘内部相通;本实用新型的有益效果在于:有利于半导体热板光刻更精确,有利于激光刻头不间断地对多个半导体热板进行光刻处理,可提高该光刻设备的工作效率,方便工作人员将光刻好的半导体热板从定位盘内取出。 | ||
搜索关键词: | 一种 精密 半导体 光刻 设备 | ||
【主权项】:
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