[实用新型]化学气相沉积设备水平调节装置有效

专利信息
申请号: 202121829199.0 申请日: 2021-08-05
公开(公告)号: CN215906274U 公开(公告)日: 2022-02-25
发明(设计)人: 孔凡涛;贾云霄;孙海兵 申请(专利权)人: 无锡吉易特半导体科技有限公司
主分类号: C23C16/46 分类号: C23C16/46
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 214194 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型是化学气相沉积设备水平调节装置,其结构是螺纹杆顶端与加热腔体底板连接处以及加热盘支撑板底面处分别设六角螺母,螺纹杆上六角螺母之间套设有弹簧,加热腔体底板向下设有一对刻度棒,刻度棒位置对应螺纹杆位置,加热盘支撑板端面上配合两根刻度棒设有辅助线。本实用新型的优点:结构设计简单合理、投入成本低,不仅可满足精密调节,也可保证调节幅度的易掌握性,可同时实现快速调节和精度调节两种调节方式;刻度棒的设置可实现直观显示调节量;改变了现有技术双螺母锁定机构,采用了适合设备机械强度的弹簧螺母锁定组合;简化了调节方式,并能对调节进行量化跟踪,有效减少了人工重复性调节对机构本身造成的损坏。
搜索关键词: 化学 沉积 设备 水平 调节 装置
【主权项】:
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