[实用新型]化学气相沉积设备水平调节装置有效
申请号: | 202121829199.0 | 申请日: | 2021-08-05 |
公开(公告)号: | CN215906274U | 公开(公告)日: | 2022-02-25 |
发明(设计)人: | 孔凡涛;贾云霄;孙海兵 | 申请(专利权)人: | 无锡吉易特半导体科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 214194 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型是化学气相沉积设备水平调节装置,其结构是螺纹杆顶端与加热腔体底板连接处以及加热盘支撑板底面处分别设六角螺母,螺纹杆上六角螺母之间套设有弹簧,加热腔体底板向下设有一对刻度棒,刻度棒位置对应螺纹杆位置,加热盘支撑板端面上配合两根刻度棒设有辅助线。本实用新型的优点:结构设计简单合理、投入成本低,不仅可满足精密调节,也可保证调节幅度的易掌握性,可同时实现快速调节和精度调节两种调节方式;刻度棒的设置可实现直观显示调节量;改变了现有技术双螺母锁定机构,采用了适合设备机械强度的弹簧螺母锁定组合;简化了调节方式,并能对调节进行量化跟踪,有效减少了人工重复性调节对机构本身造成的损坏。 | ||
搜索关键词: | 化学 沉积 设备 水平 调节 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的