[实用新型]用于半导体芯片制造的刻蚀装置

摘要

本实用新型属于芯片制造领域，具体为用于半导体芯片制造的刻蚀装置，包括操作台、晶圆片夹取机构、刻蚀机构和清洗机构，所述刻蚀机构包括刻蚀液储藏箱、刻蚀液水泵、刻蚀液连通管、刻蚀液管道支架和刻蚀液反应池，所述刻蚀液储藏箱设置在所述操作台一侧，所述刻蚀液水泵设置在所述刻蚀液储藏箱内侧底部，所述刻蚀液连通管的一端设置在所述刻蚀液水泵的输出端外侧，所述刻蚀液反应池设置在所述操作台上方。通过本实用新型使用清洗池和流动清洗水相互配合，可以先将从刻蚀反应池中取出的晶圆片放入清洗池，从而快速稀释刻蚀液浓度，降低反应速度，然后再用流动的清洗水对晶圆片进行冲洗，彻底将晶圆片表面的刻蚀液清洗干净。