[实用新型]半导体用高纯石英材料制备设备有效

专利信息
申请号: 202121925879.2 申请日: 2021-08-17
公开(公告)号: CN215440191U 公开(公告)日: 2022-01-07
发明(设计)人: 沈恒文;王玮康;唐浩;代悦明;夏美芳 申请(专利权)人: 江苏艾匹克半导体设备有限公司
主分类号: C03B20/00 分类号: C03B20/00
代理公司: 深圳市兰锋盛世知识产权代理有限公司 44504 代理人: 陆婉
地址: 214000 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型提出了一种半导体用高纯石英材料制备设备,包括设备本体和与设备本体连通设置的排气口,其特征在于,所述排气口横截面为圆形,所述排气口内固定设置有导流组件,所述导流组件包括外侧的导流筒,所述导流筒固定设置在排气口内部,所述导流筒的外侧与排气口的内壁相贴合,所述导流筒的内壁固定设置有若干均与分布的导流板,相邻的两个所述导流板顶部之间的距离和底部之间的距离相同,借此,本实用新型具有能实现对排气口处流通的气体进行导流的优点。
搜索关键词: 半导体 高纯 石英 材料 制备 设备
【主权项】:
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