[实用新型]一种电容器、阵列基板及显示装置有效

专利信息
申请号: 202121959460.9 申请日: 2021-08-19
公开(公告)号: CN216287994U 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 吕广爽;王世君;王继国;冯博;王洋;魏旃;丁腾飞;刘屹;杨心澜;台玉可;陈公达 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: H01G4/005 分类号: H01G4/005;H01G4/002;G02F1/1362
代理公司: 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 代理人: 郭栋梁
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种电容器、阵列基板及显示装置,其中,一种电容器包括公共电极、源漏金属层、第一透明电极,其中,所述公共电极和所述第一透明电极分层设置,所述源漏金属层位于所述第一透明电极和所述公共电极两层之间,所述第一透明电极和所述源漏金属层之间存在部分面积交叠,所述公共电极和所述源漏金属层之间存在部分面积交叠。本实用新型实施例提供的电容器,相较于现有技术中的电容器,相同的交叠面积下得到的电容翻倍,既不影响像素开口率又可以极大限度的增大存储电容,进而改善串扰等问题。实现显示画质改善,提升产品竞争力。
搜索关键词: 一种 电容器 阵列 显示装置
【主权项】:
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