[实用新型]蚀刻设备有效
| 申请号： | 202122027476.2 | 申请日： | 2021-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN215560685U | 公开（公告）日： | 2022-01-18 |
| 发明（设计）人： | 林刘恭 | 申请（专利权）人： | 光群雷射科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/08 | 分类号： | C23F1/08 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 王博 |
| 地址： | 中国*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种蚀刻设备，用来对包覆有一光阻层的一金属滚轮进行蚀刻，蚀刻设备包括用来固定金属滚轮的一滚轮固定装置、间隔地设置于滚轮固定装置的一浸润槽以及一升降装置。金属滚轮的长度介于1.6米～1.8米之间。浸润槽能用来容纳一蚀刻液。金属滚轮能被用来浸润于浸润槽中的蚀刻液，使未包覆有光阻层的金属滚轮的部分被蚀刻，并对应形成一蚀刻图案。升降装置用来使滚轮固定装置与浸润槽相对地移动，并且升降装置能用来使浸润槽的内侧面与金属滚轮的外表面之间的距离，介于0.1毫米～0.5毫米之间。借此，蚀刻设备能在使用少量的蚀刻液的情况下，即能完成对金属滚轮的蚀刻。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 设备 | ||
【主权项】：
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