[实用新型]一种应用于阵列曝光真空干燥改善Mura的支撑装置有效
| 申请号： | 202122106863.5 | 申请日： | 2021-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN216210481U | 公开（公告）日： | 2022-04-05 |
| 发明（设计）人： | 卢锦正;徐顺龙 | 申请（专利权）人： | 浙江泰嘉光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/40 | 分类号： | G03F7/40;G02F1/13 |
| 代理公司： | 上海汇齐专利代理事务所(普通合伙) 31364 | 代理人： | 郭丹丹 |
| 地址： | 浙江省湖州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种应用于阵列曝光真空干燥改善Mura的支撑装置，属于LCD面板技术领域，包括操作台、磁性承托板、支撑桩、支撑机构和气缸；本实用新型通过在磁性承托板的上表面开设有若干X轴方向的刻度线和若干沿Y轴方向的刻度线，便于精确调节支撑桩的放置位置；支撑桩通过设置磁性底座与磁性承托板通过磁力相互吸附，便于将支撑桩固定在任意位置，所以能够避免干燥过程中LCD液晶面板上因支撑桩导致光阻固化不均匀而导致Mura的出现，提高LCD液晶产品良率；本实用新型通过设置气缸和联动推杆，能够调节被干燥的LCD液晶面板距离干燥源的距离，实现对干燥速率的精确调控，提高干燥效果，提高LCD液晶面板性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用于 阵列 曝光 真空 干燥 改善 mura 支撑 装置 | ||
【主权项】：
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