[实用新型]一种微电子刻蚀深度的检测装置有效

专利信息
申请号: 202122211692.2 申请日: 2021-09-13
公开(公告)号: CN215491565U 公开(公告)日: 2022-01-11
发明(设计)人: 付颜龙;苏华;付丽娜 申请(专利权)人: 鄂尔多斯应用技术学院
主分类号: G01B11/22 分类号: G01B11/22
代理公司: 苏州国卓知识产权代理有限公司 32331 代理人: 江舟
地址: 017000 内蒙古自治区鄂尔多斯*** 国省代码: 内蒙古;15
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摘要: 实用新型公开了一种微电子刻蚀深度的检测装置,包括操作台(1),操作台(1)的上端开有一号滑槽(2),所述一号滑槽(2)内滑动安装有移动机构(3),所述操作台(1)的左端中部和右端中部共同固定安装有支撑架(4),所述支撑架(4)为U型结构,所述支撑架(4)的对立端均开有二号滑槽(5),两个所述二号滑槽(5)之间共同滑动安装有升降机构(6),所述升降机构(6)的上端中部穿插连接有摄像头(7),所述升降机构(6)的上端左右两侧均穿插连接有可见光发射器(8),所述支撑架(4)的上端固定安装有控制器(9),且摄像头(7)和可见光发射器(8)均与控制器(9)电性连接。本实用新型所述的一种微电子刻蚀深度的检测装置,可以适应不通宽度的煤矿掘进矿道,结构简单牢固,灵活性强,安全性能高。
搜索关键词: 一种 微电子 刻蚀 深度 检测 装置
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