[实用新型]一种用于半导体元件加工的清洗架有效
申请号: | 202122451437.5 | 申请日: | 2021-10-12 |
公开(公告)号: | CN216359207U | 公开(公告)日: | 2022-04-22 |
发明(设计)人: | 李顺 | 申请(专利权)人: | 李顺 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B13/00;H01L21/687 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 830000 新疆维吾尔自治区乌鲁木齐市*** | 国省代码: | 新疆;65 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于半导体元件加工的清洗架,包括清洗架本体,所述清洗架本体前侧靠近底部处开设有开口,所述清洗架本体前侧设有与开口相匹配的开关门,所述开关门的左侧设有若干个合页,通过设置喷洒机构,通过齿条板、横杆、第一锥形齿轮、第二锥形齿轮、转动轴、主动齿轮、半齿轮和转动杆这些部件的相互配合对半导体元件进行往复清洗,增强了清洗效果,提高了工作效率,通过设置夹持机构,通过移动板、固定板、竖杆、弹簧、拉环、螺纹杆、螺纹套、活动板、C形板和直杆这些部件的相互配合对半导体清洗时进行夹持,提高了夹持的稳定性,避免夹持不稳定导致半导体元件脱落,造成半导体元件损坏。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 半导体 元件 加工 清洗 | ||
【主权项】:
暂无信息
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