[实用新型]一种用于沉浸式光刻机的防微振基座有效
| 申请号： | 202122491338.X | 申请日： | 2021-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN216485979U | 公开（公告）日： | 2022-05-10 |
| 发明（设计）人： | 赵小江;李斌;刘国东 | 申请（专利权）人： | 大连地拓电子工程技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;F16F15/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 116000 辽宁省大连市高新技术*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种用于沉浸式光刻机的防微振基座，包括主体单元基座、晶圆处理单元基座、总成单元基座和组件单元基座。本实用新型能够满足沉浸式光刻机的防微振等级要求，基座通过不同构造的多个基座组合而成，通用性好，实用性强，且基座结构简单、安装方便，隔微振效果好，防微振等级可达VC‑D级。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 沉浸 光刻 防微振 基座 | ||
【主权项】：
暂无信息
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