[实用新型]一种喷淋装置有效
申请号: | 202122534003.1 | 申请日: | 2021-10-21 |
公开(公告)号: | CN216389397U | 公开(公告)日: | 2022-04-26 |
发明(设计)人: | 韩培丁;刘运宇;张良 | 申请(专利权)人: | 上海钧乾智造科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/67 |
代理公司: | 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 | 代理人: | 黄海霞 |
地址: | 201517 上海市金山*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种喷淋装置,包括:底座,所述底座的上表面设有第一开口;运输机构设于第一开口用于运输硅片;盖板设于底座的上方,与底座的上表面具有间距,盖板的两侧边朝向运输机构延伸形成第二开口,盖板的上表面开设有若干连接孔喷淋单元,设于盖板内,喷淋单元内设有喷淋板,喷淋板设有若干第一排气孔,喷淋板将喷淋单元分隔成第一腔室和第二腔室,第一腔室与若干连接孔导通,第二腔室对应运输机构开设有第二排气孔。本实用新型公开的喷淋装置将反应气体从连接孔输入,依次经过第一腔室和第二腔室,保证了反应气体均匀稳定的排出与运输机构上的硅片进行氧化反应,使硅片氧化较充分,提高了硅片氧化的均匀性,降低了生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 喷淋 装置 | ||
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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