[实用新型]一种双面精磨装置有效

专利信息
申请号: 202122590145.X 申请日: 2021-10-27
公开(公告)号: CN216179075U 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 周汉知;冯永;李健儿 申请(专利权)人: 四川绿然科技集团有限责任公司
主分类号: B24B7/20 分类号: B24B7/20;B24B7/17;B24B27/00;B24B45/00;B24B47/22
代理公司: 成都诚中致达专利代理有限公司 51280 代理人: 曹宇杰
地址: 629000 四川省遂*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 一种双面精磨装置,包括底板,底板的两端均设有内推机构,内推机构均设有精磨机构,内推机构用于调节精磨机构之间的间距,以使精磨机构对晶圆盘的端面进行精磨,内推机构包括安装于底板端部的内推底板,内推底板上壁两端均安装有内推轴承座,位于外侧的内推轴承座安装有内推电机,内推电机的输出轴连接有内推丝杆,内推丝杆设有内推座,内推座设有一对内推板,内推板均穿于位于内侧的内推轴承座,内推板的内侧端设有内推端板。本实用新型在进行晶圆盘加工时,方便同时对晶圆盘的两端进行精磨操作,提高了晶圆盘打磨的效率,同时方便进行打磨盘的更换,从而方便对晶圆盘实施不同程度的打磨操作,具有较强的实用性。
搜索关键词: 一种 双面 装置
【主权项】:
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