[实用新型]气浴装置及温度测量系统有效
| 申请号： | 202122628910.2 | 申请日： | 2021-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN216118389U | 公开（公告）日： | 2022-03-22 |
| 发明（设计）人： | 刘连军;邓皓仁;沈逸豪 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 廖微 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型属于光刻机技术领域，公开了一种气浴装置及温度测量系统。其中，气浴装置包括：盒体，所述盒体的内部设有气浴腔；以及喷嘴，所述喷嘴沿X轴方向延伸，多个所述喷嘴沿Y轴方向依次排列，相邻两个所述喷嘴之间形成沿X轴方向延伸的流道，所述喷嘴的上端连通所述气浴腔、下端沿X轴方向设有若干个出风孔，所述喷嘴沿Y轴方向的宽度从其上端向其下端逐渐减小。气体从气浴腔流经各喷嘴后吹扫物料，喷嘴缩短了气浴腔和物料之间的间距，同时经过逐渐收窄的喷嘴能够提高吹扫速率并降低均匀温差，之后扩散至流道中排出，避免对物料二次热污染。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 温度 测量 系统 | ||
【主权项】：
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