[实用新型]一种实验室用可升降调节的靶装置有效
| 申请号： | 202122789734.0 | 申请日： | 2021-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN216237256U | 公开（公告）日： | 2022-04-08 |
| 发明（设计）人： | 赵海燕;李超;赵文彪 | 申请（专利权）人： | 沈阳富士设备设计有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京哌智科创知识产权代理事务所(普通合伙) 11745 | 代理人： | 齐丽娜 |
| 地址： | 110000 辽宁省沈阳*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及镀膜技术领域，公开了一种实验室用可升降调节的靶装置，包括固定安装于机体上的固定底座、固定安装于固定底座上方的真空腔、设于真空腔内部的支撑套和固定安装于支撑套上的靶材，所述支撑套内部固定安装有安装座，所述机体内腔下端部通过轴承连接有传动螺杆，所述传动螺杆下端部固定套接有第一齿轮，所述机体内腔右侧安装有伺服电机，所述伺服电机输出轴上固定套接有第二齿轮，所述支撑套外侧呈环形均匀设有限位件。本实用新型通过设置第一齿轮、第二齿轮、传动螺杆、支撑套、安装座和限位件，实现自动对靶材的高度调节，使得氩离子轰击靶材的距离发生变化，改变了靶材原子的溅射效果，自动化程度高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 实验室 升降 调节 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳富士设备设计有限公司，未经沈阳富士设备设计有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202122789734.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
